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帖子 Zemax光學設計技術教程:如何使用Jones Matrix表面
Jones Matrix根下方的式子改變電場的Jones向量上式中的A, B, C, D皆為複形式。在鏡頭編輯器(LDE)和非序列元件編輯器(Non-Sequential components editor),我們可以在Jones Matrix後方的欄位入各元素的實及虛部分,以定義不同的Jones Matrix。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
Zemax光學設計技術教程:如何使用Jones Matrix表面
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中模擬高階雷射光束
該模型的入是階 p 和度 m、束腰 (w0)、光束的半焦距 (f0) 和光束極性(0 = 偶;1 = 奇);最後一個入決定了光束是由偶還是奇 Ince 多項式描述的。 Bandres 和 Gutiérrez-Vega 的論文中提供了上述每個入的完整描述。 2 列了一些未使用的入,以便該模型的入表結構與 OpticStudio 中內置的高斯腰模型的結構相匹配。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中模擬高階雷射光束
帖子 Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
此外,射成型的流程參也都有影響。因此,材料供商以及鏡片製造商通常都會提供精度超過小點後兩位的折射率資料。然而除了單一波長的折射率以及阿貝 (Abbe Number) 外,通常就不會有更多相關資料了。單一波長方面我們通常會選擇使用e線 (546.1nm),因為該波長更接近相對光度函曲線(relative luminosity curve)的最大值。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中設計DOE透鏡或超穎透鏡
例如,沒有辦法考慮所有繞射階來檢查點擴展函(PSF)。類似地,儘管可以追蹤“非有效”的順序光線,但沒有計算繞射效率,因此沒有辦法知道雜散光路中的功率比。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中設計DOE透鏡或超穎透鏡
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:如何為光學相干斷層掃描系統建模
儘管它在OCT系統的類型之間有所不同,但深度掃描通常由參考鏡執行,以使樣品返回的光對於樣品和參考之間的特定光程差(OPD)。 透過以x或y方向旋轉掃描鏡來執行橫向,橫向或b掃描,從而在整個樣品區域上平移探測光束。我們從商用OCT系統中獲取目標規格。 軸向分辨率完全來自光源特性,在5μm的量級上。 來自樣品處光束半徑的橫向分辨率為15μm。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:如何為光學相干斷層掃描系統建模
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:利用Kogelnik方法模擬體積全像光柵的繞射效率
一個參考用的經驗法則是,對於反射全像,n1/n之比不大於0.16,對於透射全像,n1/n之比不大於0.06。[2] 厚度: 假設全像是厚的。經驗上,我們是確保以下條件來保證耦合波理論仍然適用: 多階繞射: 這與厚度的限制相同。對於厚的全像,入光線的能量將只轉移到直接穿透的0階波或繞射的+1階波上。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:利用Kogelnik方法模擬體積全像光柵的繞射效率
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